泵用密封件廠家為你分析機械密封怎么會失效

密封面的平整度通常通過光波的交叉參考效應來測量。它可以用高質量的激光干法儀或光學平板晶體進行測量。前者屬于非接觸測量方法，后者屬于接觸測量方法。光學平板晶體因其供應充足、價格低廉而得到廣泛應用。

以下介紹了使用光學平整產(chǎn)品檢測平整度的基本原理

1、 平面扁平晶體

平板晶體由Pyrex玻璃、熔融晶體或折射率為1.516的光學玻璃制成，使其成為工作端面平坦的透明圓柱體。根據(jù)直徑，有六種類型：60、80、100、150、200和250mm。扁平晶體的尺寸不是太大，因為它很難制造。其精度為1級和2級；工作面平整度很高，其偏差不超過0.03um和0.1um。一般選用1級扁晶測量內密封圈端面的平面度，扁晶直徑應大于被測工件的外徑。如果密封圈的外徑超過250mm，或者密封圈由非金屬材料制成（反射性差），可以用涂漆的方法進行檢查，即被測表面涂有紅丹，并且密封圈必須連接在零級平板上。不得連接環(huán)的接觸痕跡。如果觸摸連接面積大于總面積的80%，則為合格。

2、 光源

由于單色光源可以產(chǎn)生清晰的光柱和圖形，因此通常通過光波柱和測量方法將其用作光源。太陽發(fā)出的白光實際上由七種顏色組成，每種顏色代表不同波長的電磁波。當白光通過平板晶體發(fā)射到被檢表面產(chǎn)生光波干涉時，在被檢表面的不同方向上會顯示幾種不同顏色的干涉條紋。由于各種顏色的光線混合在一起，干涉條紋的亮度和清晰度都大大減弱，因此圖像不清晰。使用單色光源，它只有一個波長。這幅畫是明暗相間的亮帶和暗帶。這是非常清楚的。你可以看到更多的干帶和暗帶，讀數(shù)更準確。單色光需要單色光源，如鈉燈；自然光也可以通過濾色器獲得。

3、 光波干涉原理及測量

干燥和條紋的合成是來自同一光源的兩組或多組光束在不同行程后從一開始就在空間的某個點會聚，從而導致亮度增強和衰減。這種光束亮度的增強和衰減就是光波的干燥和衰減。當選擇單色光源時，具有相同振幅的兩個波具有相同的相位并一起投影到一個點上，振幅將增大，即光的亮度將增強并顯示出明亮的波段；當兩個波的相位相差半個波長（180度）時，兩個光波相遇后，振幅平坦，方向相反，因此實際振幅為零，導致光毫無保留地消失，出現(xiàn)暗帶。圖13是量規(guī)條的表面和量規(guī)條32的過程的示意圖。將扁晶放置在被試物上，打開鈉燈，光束從光源o沿箭頭方向進入扁晶。該光束到達a點后，部分從扁晶下方反射，并通過扁晶到達觀察點。它的旅程是aee'f；另一部分射向被測表面，然后從量塊表面反射回來，并通過平板晶體到達觀測點。它的旅程是艱辛的。因此，abcdg在束月內的行程是aee'f（即空氣膜厚度）的兩倍。此外，光束AEE’F從空氣反射到平板晶體和平板晶體表面。將來，它的波長比通過abcdg的光束還要差半個波長。這樣，當空氣膜h等于半個波長的整數(shù)倍時，兩束光束的相位總是相差半個波長，因此光線相互減弱，平板晶體表面呈現(xiàn)暗干帶。因此，每個干帶相當于扁平晶體和被測表面之間的半波長間隔。